A 4N HfO2 porlasztó célpont leírása
A hafnium-dioxid célanyag egy nagy -tisztaságú hafnium-dioxidból (HfO₂) álló funkcionális anyag, amelyet elsősorban vékonyréteg-leválasztási eljárásokban, például fizikai gőzleválasztásban (PVD) és magnetronporlasztásban használnak. Fő jellemzői közé tartozik a magas olvadáspont, a kiváló kémiai stabilitás, a kiváló elektromos szigetelési tulajdonságok és az optikai átlátszóság meghatározott hullámhossz-tartományokon belül. A nagy tisztaság alapvető fontosságú a leválasztott filmek egyenletességének, optikai teljesítményének és a készülék megbízhatóságának biztosításához, mivel a szennyeződések filmhibákhoz vezethetnek. A célanyag minőségének stabilitása közvetlenül korrelál a leválasztási folyamat reprodukálhatóságával és a végtermék hozamával. A félvezető, optoelektronikai és fejlett gyártási technológiák folyamatos fejlődésével a nagyteljesítményű hafnium-dioxid céltárgyak iránti kereslet folyamatosan növekszik, ami széles piaci kilátásokat kínál.
A 4N HfO2 porlasztó célpont alkalmazásai
Félvezető gyártás: Nagy-dielektromos-állandóságú (nagy-k) anyagként fejlett tranzisztoros kapuszigetelők gyártásában használják, hozzájárulva az eszközök jobb teljesítményéhez és miniatürizálásához.
Optoelektronikai eszközök: Kivételes optikai tulajdonságainak,-mint például a magas törésmutatónak és az alacsony abszorpciós veszteségnek- köszönhetően széles körben alkalmazzák az optikai bevonatok -reflexiós rétegei, optikai szűrői, lézerkomponensei és nagy-teljesítményű optikai filmek előállításához.
Speciális kerámiák és bevonatok: nagy keménységét és kopásállóságát kihasználva fejlett kerámiaanyagok, valamint magas hőmérsékletnek és korróziónak ellenálló védőbevonatok gyártására szolgál.
Feltörekvő kutatás: Az olyan feltörekvő területeken, mint a kvantumszámítás, a hafnium-dioxid potenciálisan alkalmazható qubit dielektromos anyagaként.
A 4N HfO2 porlasztó célpont specifikációi
Tisztaság: 99,9%, 99,99%;
Gyártási mód: melegpréses szinterezés
Elérhető méretek:
Kör alakú: átmérő kisebb vagy egyenlő, mint 14 hüvelyk, vastagság nagyobb vagy egyenlő, mint 3 mm;
Téglalap alakú: hossza legfeljebb 14 hüvelyk, szélessége legfeljebb 10 hüvelyk, vastagsága legfeljebb 3 mm.
A kötvény típusa: Indium
A 4N HfO2 porlasztó célpont minőségellenőrzése és tesztelése
GYIK a 4N HfO2 porlasztó célponthoz
Ön a gyári ill agyártó?
V: Igen, mi egy 4N HfO2 Sputtering Target gyár vagyunk, de általában kereskedelmi cégünket használjuk a külföldi üzletek kezelésére. Kényelmesebb lesz az utalvány átvétele és a szállítás megszervezése.
Mi a szállítási mód?
V: Általában 4N HfO2 porlasztó célpontot küldünk UPS-en, DHL-en vagy FedEx-en keresztül. Szintén küldhetünk tengeren egy kikötőbe vagy légi úton a legközelebbi repülőtérre.
Miért olyan költséghatékony a 4N HfO2 porlasztási célpontja?
V: Kivágjuk a közvetítőket a gyártási folyamat végén-a-végére, és a nyersanyagot közvetlenül a forrásból szerezzük be.
Helyszíni minőségellenőrzést végeztermékek?
V: 100%-ban teljes körű ellenőrzés az biztos. Minden minősítetlen 4N HfO2 porlasztó céltárgyat el kell dobni.
Hogyan biztosítod az átfutási időt?
V: Az anyag előkészítésétől a megmunkálásig és végül a teljes ellenőrzésig. A gyártás minden szakaszát szigorúan felügyelik és ellenőrzik, hogy pontos szállítási időt biztosítsunk.
Mi a 4N HfO2 porlasztásos cél MOQ-ja?
V: A 4N HfO2 porlasztási cél mennyiségétől függ; általában nincs MOQ-korlát.
Hogyan kell fizetnia termékeket?
V: Banki átutalás (T/T) elfogadható.
Mi a szállítási idő?
V: Körülbelül 7-20 nap, ami a 4N HfO2 porlasztási cél mennyiségétől és termelésétől függ.
Milyen csomagról van szó?
V: Általában kartondobozt vagy rétegelt lemez tokot használunk, amelynek belsejében védőanyag van, hogy biztosítsuk a 4N HfO2 porlasztó célpont biztonságát.
Mi az átfutási idő?
V: A megrendeléstől a rakomány átvételéig körülbelül 10-25 napig tart.
Népszerű tags: 4n hfo2 porlasztó célpont, Kína 4n hfo2 porlasztó célpont beszállítói, gyár
