PVD bevonatanyag
-
![4N ZrO2 porlasztó célpont Cu hátlappal]()
4N ZrO2 porlasztó célpont Cu hátlappalA hátlappal ellátott cirkónium-dioxid porlasztó célpontjaink nagy-tisztaságú cirkónium-dioxid anyagból készülnek, amely biztonságosan egy fém hátlaphoz van rögzítve; ez a kialakítás gyors...Több -
![ZrC porlasztó célpont Cu hátlappal]()
ZrC porlasztó célpont Cu hátlappalA réz hátlappal ellátott cirkónium-karbid (ZrC) porlasztó céltárgyaink erős kötést biztosítanak a nagy-tisztaságú ZrC célanyag és a réz hátlap között. Ez a kialakítás kiváló hő- és elektromos...Több -
![Ta 5at% adalékolt ZrC porlasztó célpont]()
Ta 5at% adalékolt ZrC porlasztó célpontA cirkónium-karbid precíz adalékolása 5 atomszázalékos tantáltartalommal jelentősen megnöveli a célanyag magas hőmérséklet-állóságát, hősokkállóságát és korrózióállóságát. Nagy tisztasággal és...Több -
![4N IGZO Sputtering Target]()
4N IGZO Sputtering TargetA 4N IGZO porlasztó célpontjaink stabilabb és hatékonyabb porlasztási teljesítményt biztosítanak. Csúcskategóriás-kijelző- és félvezető-alkalmazásokra specializálódtak, elősegítik a kiváló...Több -
![4N HfO2 Target Cu hátlappal]()
4N HfO2 Target Cu hátlappalA 4N HfO₂ porlasztásos célpont réz hátlappal 99,99%-os tisztaságú hafnium-oxid anyagot használ. Réz hátlappal integrálva kiváló hővezető képességet kínál, és ideális optikai bevonat, félvezető...Több -
![4N HfO2 2% Ti Targettel adalékolva]()
4N HfO2 2% Ti Targettel adalékolvaA 2%-os Ti-adalékolt HfO₂ porlasztó célpont nagy-tisztaságú hafnium-oxid szubsztrátból készül, precízen 2% titánnal adalékolt. Kompozíciós egyenletessége és nagy sűrűsége jellemzi, ideálisan...Több -
![4N HfO2 porlasztó célpont]()
4N HfO2 porlasztó célpont4N nagy tisztaságú hafnium-dioxid porlasztási cél (99,99%-os tisztaság) – optikai bevonatok, félvezetők és precíziós elektronikai alkalmazásokhoz alkalmas. Nagy sűrűségű, egyenletes összetételű és...Több -
![Testreszabható 4N szénporlasztó célpont]()
Testreszabható 4N szénporlasztó célpontA nagy-tisztaságú 4N szénporlasztó céltábláink 99,99%-os tisztaságú szénből készülnek, alacsony szennyeződési szinttel rendelkeznek, így ideálisak félvezetőkben, optikai vékonyfilmekben és...Több -
![B4C Sputtering Target]()
B4C Sputtering TargetA nagy-tisztaságú bór-karbid nyersanyagokat használó termék kivételes keménységgel és robusztus hőstabilitással rendelkezik, így ideális a félvezetőgyártáshoz, az optikai bevonatokhoz és a...Több -
![Egyedi bórporlasztó célpontok]()
Egyedi bórporlasztó célpontokNagy{0}}tisztaságú, sűrű bórcélokat kínálunk, amelyek tökéletesen alkalmasak félvezető- és bevonási eljárásokhoz. Támogatjuk a műszaki rajzokon alapuló egyedi gyártást, szigorúan ellenőrizve a...Több -
![Testreszabott 3N5 kerek volfrám cél]()
Testreszabott 3N5 kerek volfrám cél3N5 tisztaságú (99,95%) egyedi -kör alakú volfrámcélokat kínálunk. Porkohászattal készültek, egységes mikroszerkezettel, nagy sűrűséggel, porozitástól és szennyeződésektől mentesek. Különösen...Több -
![Testreszabott, nagy tisztaságú Hf porlasztó célpont]()
Testreszabott, nagy tisztaságú Hf porlasztó célpont99,9%-ot meghaladó tisztaságú, egyedi sűrűségű és finom mikroszerkezetű, egyedi{0}}tisztaságú hafniumporlasztó célpontokat kínálunk. Kifejezetten félvezető chipekhez, optikai bevonatokhoz és...Több
Professzionális pvd bevonóanyag-beszállítók vagyunk Kínában, magas színvonalú, testreszabott szolgáltatás nyújtására szakosodva. Szeretettel üdvözöljük, hogy vásároljon kedvezményes pvd bevonóanyagot itt, és ingyenes mintát kapjon gyárunkból. Árkonzultációért vegye fel velünk a kapcsolatot.