B4C Sputtering Target
B4C Sputtering Target

B4C Sputtering Target

A nagy-tisztaságú bór-karbid nyersanyagokat használó termék kivételes keménységgel és robusztus hőstabilitással rendelkezik, így ideális a félvezetőgyártáshoz, az optikai bevonatokhoz és a kopásálló fóliák{1}}gyártásához. Stabil minőséget és egyenletes összetételt kínál, hatékonyan növelve a bevonat hatékonyságát és a termék élettartamát. Egyedi specifikációk állnak rendelkezésre a különféle folyamatkövetelmények kielégítésére.
A szálláslekérdezés elküldése
A B4C Sputtering Target leírása

 

A bór-karbid (B4C) porlasztó céltárgyak nagy{1}}teljesítményű kerámiacélok, amelyeket elsősorban a fizikai gőzfázisú leválasztási (PVD) eljárásokban használnak,-különösen a magnetronos porlasztással-, hogy vékony bór-karbid filmeket vigyenek fel a szubsztrátum felületére. Kivételes fizikai-kémiai tulajdonságaik miatt ezek a vékony filmek számos csúcstechnológiai ágazatban jelentős alkalmazást találnak. A bór-karbid céltáblákat jellemzően kör alakú tárcsa formátumban gyártják, amelyek általános átmérője 50,8 mm és 76,2 mm, elérhető vastagsága pedig 3 mm és 6 mm között van. A tisztasági szintek a 99%-tól egészen a nagy{13}}tisztaságú 4N-ig terjedő spektrumot ölelnek fel, kielégítve mind a tudományos kutatás, mind az ipari alkalmazások sokféle követelményét. Ezenkívül olyan szolgáltatások állnak rendelkezésre, mint például a réz hátlapokhoz való ragasztás, amelyek megkönnyítik a telepítést és a használatot.

 

A B4C Sputtering Target jellemzői

 

Kivételes keménység: Keménysége csak a gyémánt és a köbös bór-nitrid keménysége, így a „Black Diamond” becenevet kapta.
Kiváló magas{0}}hőmérsékletállóság: A körülbelül 2350 fokot elérő olvadáspontjával stabil teljesítményt tart fenn magas-hőmérsékletű környezetben.
Jó kémiai stabilitás: A legtöbb savval szemben kémiailag közömbös, de olvadt lúgokban oldódik.
Kis sűrűségű és nagy neutronabszorpciós keresztmetszet{0}}: Körülbelül 2,52 g/cm³ sűrűségével hatékonyan nyeli el a neutronokat anélkül, hogy radioaktív izotópokat generálna, így jelentős jelentőséggel bír a nukleáris iparban.
Nagy tisztaságú követelmények: A nagy teljesítményű{0}}célanyagok előállításához a bór-karbid por általában 99%-ot meghaladó tisztaságot igényel; a szennyeződések -például oxigén, vas és szilícium- szigorú ellenőrzése elengedhetetlen a végtermék teljesítményének biztosításához.

 

A B4C Sputtering Target alkalmazásai

 

Kopás- és páncélozott védelem területén is alkalmazásra talál.
Repülés és űrhajózás: Olyan alkatrészek felületi bevonására szolgál, amelyek a szélsőséges hőmérsékleteknek és a zord környezetnek ellenállnak.
Nukleáris energia és neutronészlelés: Ideális neutron{0}}elnyelő anyagként szolgál atomreaktorokban való felhasználáshoz; a nagy-teljesítményű, nagy felületű bór-karbid vékonyrétegeket sikeresen alkalmazták neutrondetektorokban, így sikerült lokalizálni a kulcsfontosságú technológiákat és eszközöket.
Félvezetők és funkcionális vékonyrétegek: Funkcionális vékonyrétegek felhordása különböző hordozókra, beleértve az üveget, fémeket és műanyagokat.

 

A B4C porlasztó célpont specifikációi

 

Anyag típusa Bór-karbid
Szimbólum B4C
Olvadáspont ( fok ) 2,350
Elméleti sűrűség (g/cc) 2.52
Z arány 1.00
Köpköd RF
Max teljesítménysűrűség
(Watt/négyzethüvelyk)
20
A kötvény típusa Indium
Megjegyzések Hasonló a krómhoz.

 

A B4C porlasztó célpont minőségellenőrzése és tesztelése

 

1QC

 

GYIK a B4C Sputtering Targethez

 

Ön a gyári ill agyártó?
V: Igen, mi egy B4C Sputtering Target gyár vagyunk, de általában kereskedelmi vállalatunkat használjuk a külföldi üzletek kezelésére. Kényelmesebb lesz az utalvány átvétele és a szállítás megszervezése.

Mi a szállítási mód?
V: Általában UPS-en, DHL-en vagy FedEx-en keresztül küldjük a B4C Sputtering Target-t. Szintén küldhetünk tengeren egy kikötőbe vagy légi úton a legközelebbi repülőtérre.

Miért olyan költséghatékony a B4C Sputtering Target{1}}?
V: Kivágjuk a közvetítőket a gyártási folyamat végén-a-végére, és a nyersanyagot közvetlenül a forrásból szerezzük be.

Helyszíni minőségellenőrzést végeztermékek?
V: 100%-ban teljes körű ellenőrzés az biztos. Minden minősíthetetlen B4C porlasztó célpontot el kell dobni.

Hogyan biztosítod az átfutási időt?
V: Az anyag előkészítésétől a megmunkálásig és végül a teljes ellenőrzésig. A gyártás minden szakaszát szigorúan felügyelik és ellenőrzik, hogy pontos szállítási időt biztosítsunk.

Mi a B4C Sputtering Target MOQ-ja?
V: A B4C Sputtering Target mennyiségétől függ; általában nincs MOQ-korlát.

Hogyan kell fizetnia termékeket?
V: Banki átutalás (T/T) elfogadható.

Mi a szállítási idő?
V: Körülbelül 7-20 nap, ami a B4C Sputtering Target mennyiségétől és termelésétől függ.

Milyen csomagról van szó?
V: A B4C Sputtering Target biztonsága érdekében általában kartondobozt vagy rétegelt lemez tokot használunk védőanyaggal.

Mi az átfutási idő?
V: A megrendeléstől a rakomány átvételéig körülbelül 10-25 napig tart.

 

4

 

Népszerű tags: b4c porlasztó célpont, Kína b4c porlasztó célpont beszállítók, gyár