Kerámia porlasztó célpontok
-
![4N ZrO2 porlasztó célpont Cu hátlappal]()
4N ZrO2 porlasztó célpont Cu hátlappalA hátlappal ellátott cirkónium-dioxid porlasztó célpontjaink nagy-tisztaságú cirkónium-dioxid anyagból készülnek, amely biztonságosan egy fém hátlaphoz van rögzítve; ez a kialakítás gyors...Több -
![ZrC porlasztó célpont Cu hátlappal]()
ZrC porlasztó célpont Cu hátlappalA réz hátlappal ellátott cirkónium-karbid (ZrC) porlasztó céltárgyaink erős kötést biztosítanak a nagy-tisztaságú ZrC célanyag és a réz hátlap között. Ez a kialakítás kiváló hő- és elektromos...Több -
![Ta 5at% adalékolt ZrC porlasztó célpont]()
Ta 5at% adalékolt ZrC porlasztó célpontA cirkónium-karbid precíz adalékolása 5 atomszázalékos tantáltartalommal jelentősen megnöveli a célanyag magas hőmérséklet-állóságát, hősokkállóságát és korrózióállóságát. Nagy tisztasággal és...Több -
![4N IGZO Sputtering Target]()
4N IGZO Sputtering TargetA 4N IGZO porlasztó célpontjaink stabilabb és hatékonyabb porlasztási teljesítményt biztosítanak. Csúcskategóriás-kijelző- és félvezető-alkalmazásokra specializálódtak, elősegítik a kiváló...Több -
![4N HfO2 Target Cu hátlappal]()
4N HfO2 Target Cu hátlappalA 4N HfO₂ porlasztásos célpont réz hátlappal 99,99%-os tisztaságú hafnium-oxid anyagot használ. Réz hátlappal integrálva kiváló hővezető képességet kínál, és ideális optikai bevonat, félvezető...Több -
![4N HfO2 2% Ti Targettel adalékolva]()
4N HfO2 2% Ti Targettel adalékolvaA 2%-os Ti-adalékolt HfO₂ porlasztó célpont nagy-tisztaságú hafnium-oxid szubsztrátból készül, precízen 2% titánnal adalékolt. Kompozíciós egyenletessége és nagy sűrűsége jellemzi, ideálisan...Több -
![4N HfO2 porlasztó célpont]()
4N HfO2 porlasztó célpont4N nagy tisztaságú hafnium-dioxid porlasztási cél (99,99%-os tisztaság) – optikai bevonatok, félvezetők és precíziós elektronikai alkalmazásokhoz alkalmas. Nagy sűrűségű, egyenletes összetételű és...Több -
![B4C Sputtering Target]()
B4C Sputtering TargetA nagy-tisztaságú bór-karbid nyersanyagokat használó termék kivételes keménységgel és robusztus hőstabilitással rendelkezik, így ideális a félvezetőgyártáshoz, az optikai bevonatokhoz és a...Több -
![Testreszabott HfC részecskék]()
Testreszabott HfC részecskékA testreszabott HfC részecskék leírása A HfC részecskéket általában úgy állítják elő, hogy hafnium-dioxidot (HfO₂) reagáltatnak szénnel magas hőmérsékleten (1900-2300 fok) inert vagy redukáló...Több -
![ón-oxid (SnO2) porlasztásos cél]()
ón-oxid (SnO2) porlasztásos célAz ón-oxid célpont (SnO2) fontos szervetlen nemfémes anyag. Egyedülálló fizikai és kémiai tulajdonságainak köszönhetően számos high-tech területen játszik fontos szerepet. Fő jellemzői a magas...Több -
![Tantál-oxid (Ta2O5) porlasztásos cél]()
Tantál-oxid (Ta2O5) porlasztásos célA tantál-oxid porlasztó célpont használható félvezető, kémiai gőzleválasztás (CVD), fizikai gőzleválasztás (PVD) kijelző és optikai alkalmazásokban. Kiváló minőségű tantál-oxid porlasztó céltárgy...Több -
![Titán-oxid (TiO2) porlasztásos cél]()
Titán-oxid (TiO2) porlasztásos célA titán-dioxid (TiO2) a legszélesebb körben használt fehér pigment, például a festékekben. Nagy fényereje és nagyon magas törésmutatója (2,609 rutil esetén).Több
Professzionális kerámiaporlasztásos beszállítók vagyunk Kínában, és magas színvonalú, testreszabott szolgáltatás nyújtására specializálódtunk. Szeretettel üdvözöljük, ha akciós kerámia porlasztó célpontokat vásárol itt raktáron, és ingyenes mintát kap gyárunkból. Árkonzultációért vegye fel velünk a kapcsolatot.