4N HfO2 2% Ti Targettel adalékolva
4N HfO2 2% Ti Targettel adalékolva

4N HfO2 2% Ti Targettel adalékolva

A 2%-os Ti-adalékolt HfO₂ porlasztó célpont nagy-tisztaságú hafnium-oxid szubsztrátból készül, precízen 2% titánnal adalékolt. Kompozíciós egyenletessége és nagy sűrűsége jellemzi, ideálisan alkalmas optikai bevonatokhoz, félvezető vékony{5}film leválasztáshoz és funkcionális bevonatok készítéséhez. A kiváló hőstabilitást és elektromos tulajdonságokat mutató célpont stabil és szabályozható porlasztási folyamatot biztosít, ezáltal megkönnyíti a kiváló minőségű, -vékony{8}}filmes anyagok pontos lerakódását.
A szálláslekérdezés elküldése
A 2% Ti Targettel adalékolt 4N HfO2 leírása

 

A 2%-os titánnal adalékolt HfO2 egy funkcionális anyag-prekurzor, amelyet precíz, atomi{2}}szintű adalékolási technikákkal készítettek. Ennek az anyagnak a lényege, hogy titánt vezetnek be egy hafnium-dioxid mátrixba 2%-os mólarányban, és szilárd oldatot képeznek, amelyben a Ti4+ ionok részben helyettesítik a Hf4+ ionokat a HfO2 kristályrácsban. Ez az adalékolási eljárás nem pusztán egy egyszerű fizikai keverék; inkább arra tervezték, hogy aktívan modulálja az anyag mikroszerkezetét és elektronikus tulajdonságait, ezáltal olyan specifikus funkciókkal ruházza fel, amelyek felülmúlják a tiszta HfO₂ funkcióit. A porlasztó céltárgy fizikai formája kritikus eszközként szolgál a fejlett vékonyréteg-gyártási technológiákban való alkalmazáshoz. Az ilyen célpontoknak meg kell felelniük a nagy tisztaságra (tipikusan 99,99% vagy nagyobb), a nagy sűrűségre és az összetétel egységességére vonatkozó szigorú szabványoknak. A nagy tisztaság elengedhetetlen ahhoz, hogy az ellenőrizetlen szennyeződések ne rontsák a kapott vékony film teljesítményét; fordítva, a nagy sűrűség és egyenletesség biztosítja a fólia összetételének és lerakódási sebességének stabilitását a porlasztási folyamat során, ezáltal lehetővé téve a vékony film számára, hogy pontosan "örökölje" a célanyag tervezett jellemzőit.

 

2% Ti Targettel adalékolt 4N HfO2 alkalmazása

 

Fejlett félvezető memória: Különösen a Ferroelectric Random{0}}Access Memory (FeRAM) területén. A titán adalékolás segít stabilizálni a HfO₂ ferroelektromos ortorombikus fázisát, és kiváló ferroelektromos kapcsolási jellemzőkkel ruházza fel, amelyek megfelelnek a nagy-sűrűségű, kis-teljesítményű memóriaeszközök követelményeinek.
Nagy-Dielektromos-Állandó (nagy-κ) Kapu dielektrikum: Az integrált áramkörökben a tranzisztoros kapuk dielektromos rétegeként szolgál; magas dielektromos állandójának kihasználásával hatékonyan csökkenti a fizikai vastagságot, miközben megőrzi a kiváló szigetelési teljesítményt és megbízhatóságot.
Funkcionális bevonatok és optikai vékonyrétegek: Magas törésmutatójának, kiváló kémiai stabilitásának és optikai tulajdonságainak köszönhetően, -amelyek doppingolással hangolhatók-, speciális optikai bevonatokban vagy védőrétegekben használják.

 

A 2% Ti Targettel adalékolt 4N HfO2 specifikációi

 

Mérete: 50,8 mm átm. *3mm tk

Ragasztás típusa: In

Hátlap: Cu

Hátlap mérete: 50,8mm átmérő *3mm tk

 

A 2% Ti-vel adalékolt 4N HfO2 minőségellenőrzése és tesztelése

 

1QC

 

GYIK 2% Ti Targettel adalékolt 4N HfO2-hoz

 

Ön a gyári ill agyártó?
V: Igen, mi egy 4N HfO2-vel adalékolt 2% Ti Target gyár vagyunk, de általában kereskedelmi vállalatunkat használjuk a külföldi üzletek kezelésére. Kényelmesebb lesz az utalvány átvétele és a szállítás megszervezése.

Mi a szállítási mód?
V: Általában 2% Ti Targettel adalékolt 4N HfO2-t küldünk UPS, DHL vagy FedEx által. Szintén küldhetünk tengeren egy kikötőbe vagy légi úton a legközelebbi repülőtérre.

Miért olyan költséghatékony az Ön 2%-os Ti Targettel adalékolt 4N HfO2-ja?
V: Kivágjuk a közvetítőket a gyártási folyamat végén-a-végére, és a nyersanyagot közvetlenül a forrásból szerezzük be.

Helyszíni minőségellenőrzést végeztermékek?
V: 100%-ban teljes körű ellenőrzés az biztos. Minden minősítetlen 4N HfO2 2% Ti-vel adalékolt céltárgyat eldobunk.

Hogyan biztosítod az átfutási időt?
V: Az anyag előkészítésétől a megmunkálásig és végül a teljes ellenőrzésig. A gyártás minden szakaszát szigorúan felügyelik és ellenőrzik, hogy pontos szállítási időt biztosítsunk.

Mennyi a 2% Ti Targettel adalékolt 4N HfO2 MOQ-ja?
V: A 2% Ti Target-tel adalékolt 4 N HfO2 mennyiségétől függ; általában nincs MOQ-korlát.

Hogyan kell fizetnia termékeket?
V: Banki átutalás (T/T) elfogadható.

Mi a szállítási idő?
V: Körülbelül 7-20 nap, ami a 2% Ti Targettel adalékolt 4N HfO2 mennyiségétől és termelésétől függ.

Milyen csomagról van szó?
V: Általában kartondobozt vagy rétegelt lemez tokot használunk védőanyaggal a belsejében, hogy biztosítsuk a 2% Ti Targettel adalékolt 4N HfO2 biztonságát.

Mi az átfutási idő?
V: A megrendeléstől a rakomány átvételéig körülbelül 10-25 napig tart.

 

4

 

Népszerű tags: 4n hfo2 adalékolt 2% ti céllal, Kína 4n hfo2 adalékolt 2% ti cél beszállítókkal, gyár