4N Mg Magnézium Sputtering Target
4N Mg Magnézium Sputtering Target

4N Mg Magnézium Sputtering Target

A 4N magnéziumporlasztási célpontok nagy-tisztaságú fémporlasztó anyagok, amelyek tisztasága 99,99% vagy annál nagyobb. Finom szemcsék és egyenletes összetételűek, így alkalmasak félvezetők, optikai bevonatok és korróziógátló bevonatok-előkészítésére. A professzionális gyártók testreszabott méreteket, vákuumcsomagolást és gyors szállítást kínálnak a kutatás és az ipar igényeinek kielégítésére, megkönnyítve a hatékony filmképzést olyan területeken, mint a chipek, a MEMS és a vékony{6}}filmes napelemek. A nagy-tisztaságú magnéziumcél kiválasztása javítja a film tapadását és egyenletességét, így stabil folyamatokat, alacsony-fenntartási költséget és garantált minőséget biztosít.
A szálláslekérdezés elküldése
A 4N Mg Magnézium Sputtering Target leírása

649 fokos olvadáspontjával, 1,74 g/cc sűrűségével és 327 fokon 10-4 Torr gőznyomásával a magnézium egy alkáliföldfém, amely szürke és fehér színű. Meglehetősen könnyen meggyullad, főleg porként, a magnézium tüzet pedig nem könnyű eloltani. A magnézium azonban az élet fontos része, és nélkülözhetetlen. A magnézium azért is fontos, mert szabályozza az idegek és a vér működését, valamint az emberi szervezetben lévő tápanyagok mennyiségét. A repülőgépek, motorházak, laptopok, valamint mobiltelefonok és kamerák gyártása egyaránt magnéziumot használ. A magnéziumot és az ötvözeteket, amelyekből készült, vákuumban elpárologtatják az optikai és mágneses adathordozók, valamint az adathordozók és a félvezetők tárolására.

A magnéziumcélpontok hasonló tulajdonságokkal rendelkeznek, mint a fémmagnéziumé. A fémmagnézium könnyebb fém, mivel világosabb, ezüstös{1}}fehér megjelenésű, és alkáliföldfém. A fémmagnéziumnak van alakíthatósága és termikus tulajdonságai, és néhány retorikai tulajdonsága van, és más fémek, például titán, cirkónium, urán és berillium kiszorítására szolgál. Ezenkívül a magnézium fontos fémek és könnyebb ötvözetek, gömbgrafitos öntöttvas, egyes Grignard-reagensek, sőt más fémek, például tudományos műszerek előállításához is.

 

2

A 4N Mg Magnézium Sputtering Target jellemzői

• Versenyképes árképzés
• Nagy tisztaságú
• Szemcse finomított, tervezett mikrostruktúra
• Félvezető minőségű

A 4N Mg Magnézium Sputtering Target alkalmazásai

A Magnesium Sputtering Target félvezető, kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD), fizikai gőzleválasztás (PVD), kijelző és optikai alkalmazásokban használható.

A 4N Mg Magnézium Sputtering Target specifikációi
Anyag típusa Magnézium
Szimbólum Mg
Atomtömeg 24.305
Atomszám 12
Szín/Megjelenés Ezüstfehér, metál
Hővezetőképesség 160 W/m.K
Olvadáspont ( fok ) 649
Hőtágulási együttható 8.2 x 10-6/K
Elméleti sűrűség (g/cc) 1.74
Z arány 1.61
Köpköd DC
Max teljesítménysűrűség*
(Watt/négyzethüvelyk)
50
Méret 1 hüvelyk - 8 hüvelyk/testreszabott
A kötvény típusa Indium, elasztomer
Tisztaság Testreszabott
Megjegyzések Rendkívül magas díjak lehetségesek.

 

GYIK a 4N Mg Magnézium Sputtering Targethez

 

Ön a gyári ill agyártó?
V: Igen, mi egy 4N Mg Magnesium Sputtering Targets gyár vagyunk, de általában a kereskedelmi vállalatunkat használjuk a külföldi üzletek kezelésére. Kényelmesebb lesz az utalvány átvétele és a szállítás megszervezése.

Mi a szállítási mód?
V: Általában 4N Mg Magnézium Sputtering Targeteket küldünk UPS-en, DHL-en vagy FedEx-en keresztül. Szintén küldhetünk tengeren egy kikötőbe vagy légi úton a legközelebbi repülőtérre.

Miért olyan költséghatékony a 4N Mg Magnézium Sputtering Target?
V: Kivágjuk a közvetítőket a gyártási folyamat végén-a-végére, és a nyersanyagot közvetlenül a forrásból szerezzük be.

Helyszíni minőségellenőrzést végeztermékek?
V: 100%-ban teljes körű ellenőrzés az biztos. Minden minősíthetetlen 4N Mg Magnézium Sputtering Target eldobnak.

Hogyan biztosítod az átfutási időt?
V: Az anyag előkészítésétől a megmunkálásig és végül a teljes ellenőrzésig. A gyártás minden szakaszát szigorúan felügyelik és ellenőrzik, hogy pontos szállítási időt biztosítsunk.

Mi a 4 N Mg Magnézium Sputtering Target MOQ-ja?
V: A 4 N Mg Magnézium Sputtering Target mennyiségétől függ; általában nincs MOQ-korlát.

Hogyan kell fizetnia termékeket?
V: Banki átutalás (T/T) elfogadható.

Mi a szállítási idő?
V: Körülbelül 7-20 nap, ami a 4N Mg Magnézium Sputtering Targets mennyiségétől és termelésétől függ.

Milyen csomagról van szó?
V: Általában kartondobozt vagy rétegelt lemez tokot használunk, amelynek belsejében védőanyag van, hogy biztosítsuk a 4N Mg Magnézium Sputtering Target biztonságát.

Mi az átfutási idő?
V: A megrendeléstől a rakomány átvételéig körülbelül 10-25 napig tart.

 

Népszerű tags: 4 n mg magnézium porlasztó célpont, Kína 4 n mg magnézium porlasztó cél beszállítók, gyár